パルスレーザーアブレーション成膜装置 PLD-3000
パルスレーザーアブレーション成膜装置 PLD-3000 http://www.ipros.jp/public/product/image/ef1/2000225445/IPROS5811375675602026638.jpg 1500℃昇温レーザー加熱システムを採用した最新型パルスレーザーアブレーション 成膜装置です。実績のある安定したNd:YAGパルスレーザーを採用しメンテナンスは容易です。高性能、コンパクト、使いやすく自由度の多い設計となっています。 特長 ○ レーザー加熱システムを採用し1500℃加熱を実現 ○ ランプヒーター、SiCヒーターの1000℃加熱装置も用意   ○ 安定でメンテナンスが容易なYAGレーザーを採用 ○ 周波数解析可能なRHEEDシステム ○ コンパクトながら自由度が多く高性能 ○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能 ○ スパッタガンおよびMBEセル等の増設も可能 有限会社フリーダム 電子部品・モジュール > 電池・バッテリー > 2次電池・バッテリー PLD-3000
  • 1500℃昇温のレーザー加熱を採用したパルスレーザーアブレーション成膜装置。さらに進化しています。
    有限会社フリーダム
    1500℃昇温レーザー加熱システムを採用した最新型パルスレーザーアブレーション成膜装置です。実績のある安定したNd:YAGパルスレーザーを採用しメンテナンスは容易です。高性能、コンパクト、使いやすく自由度の多い設計となっています。
    特長
    ○ レーザー加熱システムを採用し1500℃加熱を実現
    ○ ランプヒーター、SiCヒーターの1000℃加熱装置も用意  
    ○ 安定でメンテナンスが容易なYAGレーザーを採用
    ○ 周波数解析可能なRHEEDシステム
    ○ コンパクトながら自由度が多く高性能
    ○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
    ○ スパッタガンおよびMBEセル等の増設も可能
  • パルスレーザーアブレーション装置 PLD-3000
    パルスレーザーアブレーション装置 PLD-3000

基本情報パルスレーザーアブレーション成膜装置 PLD-3000

1500℃昇温レーザー加熱システムを採用した最新型パルスレーザーアブレーション
成膜装置です。実績のある安定したNd:YAGパルスレーザーを採用しメンテナンスは容易です。高性能、コンパクト、使いやすく自由度の多い設計となっています。
特長
○ レーザー加熱システムを採用し1500℃加熱を実現
○ ランプヒーター、SiCヒーターの1000℃加熱装置も用意  
○ 安定でメンテナンスが容易なYAGレーザーを採用
○ 周波数解析可能なRHEEDシステム
○ コンパクトながら自由度が多く高性能
○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
○ スパッタガンおよびMBEセル等の増設も可能

価格

-
※お問い合わせください

価格帯

1000万円以上 5000万円未満

納期

発売日

取扱い中

型番・ブランド名

PLD-3000

用途/実績例

大学、研究機関などで新材料研究開発プロジェクトに多数使用されています。

よく使用される業種

セラミックス、産業用機械、電子部品・半導体、光学機器、試験・分析・測定

カタログパルスレーザーアブレーション成膜装置 PLD-3000

  • 1200℃昇温レーザー加熱システムを採用した最新型パルスレーザーアブレーション
    成膜装置です。実績のある安定したNd:YAGパルスレーザーを採用しメンテナンスは容易です。高性能、コンパクト、使いやすく自由度の多い設計となっています。
    特長
    ○ レーザー加熱システムを採用し1200℃加熱を実現
    ○ 安定でメンテナンスが容易なYAGレーザーを採用
    ○ 周波数解析可能なRHEEDシステム
    ○ コンパクトながら自由度が多く高性能
    ○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
    ○ スパッタガンおよびMBEセル等の増設も可能
    ○ ランプヒーター、SiCヒーターの1000℃加熱装置も用意
  • レーザー基板加熱システムは基板を短時間で1000℃以上に加熱できます。
    真空チャンバー外からの加熱のためどのような雰囲気での実験も可能です。
    特長
    ○ レーザー加熱を採用し短時間で1000℃以上の高温加熱を実現。
    ○ 任意のガス雰囲気で実験可能。
    ○ メンテナンスの容易なレーザーダイオード光源を採用。
    ○ レーザーアニール装置としても使用可能。
    ○ 光ファイバー導入で各種成膜装置に取付容易。
  • ○豊富な実績を持つ安定したSiCヒータを採用しています。
    ○1000℃以上の高温加熱が可能です。
    ○均熱性が良いヒータ構造です。
    ○酸素ガス雰囲気でも使用可能。
    ○アウトガスが少なく高真空対応可能。
    ○φ1インチからφ8インチまで対応可能。
  • KOREA KIYON社製グローブボックスシステムは不活性ガスの雰囲気で水分、酸素量が1ppm以下に保たれるように設計されています。
    グローブボックスは、本体、サイドボックス、ガス精製装置の3ユニットで構成されています。各種真空装置との接続により大気にさらすことなく連続処理が可能です。
  • 大気暴露により基本物性が変化してしまう物質やデバイスを超高真空環境のまま持ち運ぶことができます。乾電池で駆動する小型イオンポンプを開発し装備しています。反応活性な金属や半導体デバイスを分析・解析するため放射光施設Spring8などへ運ぶ際に使用されています。
    特長
    ○大気に曝すことなく試料を持ち運ぶことができます。
    ○3次元電磁場構成と各種軽量剤の利用によりイオンポンプの大幅な小型化 と軽量化に成功
    ○消費電力の低減化技術により市販乾電池で駆動するイオンポンプを実現
    ○スーツケースに入れ航空機で海外へ移送することもできます。
    本製品は(独)情報通信研究機構から特許の実施許諾を受けて制作しています。
  • 金スポット蒸着器は基板の任意の位置にφ1mmの金蒸着をしマーキングを
    することができます。分析の際の位置確認やレファレンスとして便利です
    ○ 基板の任意の位置にφ1mmの金マーキングをすることができます。
    ○ 分析個所の位置確認が容易です。
    ○ 分析のレファレンスとしても便利です。
    ○ 水平から45度までの範囲でマーキングができます。
  • Z軸ストローク    300mm
     有効内径      98mm
     許容加熱温度   200℃
     取付フランジ    ICF-152
     重量         25Kg
    オプション
     Z軸ストローク50mm、100mm、200mm
     θ回転機構 XYステージ

取扱会社パルスレーザーアブレーション成膜装置 PLD-3000

パルスレーザーデポジション装置(PLD)をはじめリチウム蒸着装置、有機デバイス研究用蒸着装置等、研究用の各種成膜装置を製作しています。 また、1000℃以上に短時間で加熱できるレーザー加熱、1200℃加熱できる真空用ランプ加熱、酸素雰囲気で加熱できるSiCヒータ、超高真空キャリアケース等ユニークな真空機器を提供しています。

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