波長285nm親撥水処理パターン描画装置ワイ・ドライブ

プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・撥水領域パターン描画装置です。波長２８５ｎｍ

１）有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
　ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
２）インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します

・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系　　　
・パターン幅20０μｍ　　　・描画域　100×100mm
・ＤＸＦファイル使用可

基本情報波長285nm親撥水処理パターン描画装置

価格帯	100万円 ~ 500万円
納期	お問い合わせください
用途／実績例	１）有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。　ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。２）インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します

カタログ波長285nm親撥水処理パターン描画装置

取扱企業波長285nm親撥水処理パターン描画装置

株式会社ワイ・ドライブ

プリンテッドエレクトロニクス工法向け技術、電子機器の開発インクジェット技術コンサルティング ■技術プリンテッドエレクトロニクス。インク飛翔観察装置カーボン系導電ペースト。285nmUVLED光源デジタルサーボ制御　ARM系CPUでベクトル制御を実現 ■製品インクジェット液滴・高精度飛翔観察装置アナログ系混在電子回路　高速/高精度・各種駆動回路インクジェット印刷機　ＣＭＹＫ４色／ＧＥＮ５使用プリンテッドエレクトロニクス用インクジェット塗布装置 ■インクジェットヘッド駆動基板　リコー社　　　　　ＧＥＮ５ヘッド　京セラ社　　　　　ＫＪ４Ａ／Ｂ　コニカミノルタ社　KM256LNB-DPN 　　　　　　　　　　KM128SNG-MB　など　FujiFilm Dimatix　SG1024、PQシリーズ　など ■ARM系CPUによるデジタルサーボ制御基板　電流ベクトル制御プログラム（d－q座標変換）を３相ＰＷＭで実現　ARM系ＣＯＲＴＥＸ-Ｍ３シリーズ　各社のＣＰＵ対応