株式会社ウェーブフロント アークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』

アークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』 http://www.ipros.jp/public/product/image/ef9/2000249498/IPROS8242458128366670596.gif VizSparkはアークプラズマの特性だけではなく、共役熱伝達や流れとの連成を考慮に入れているため、幅広い目的に活用をして頂く事が可能です。 VizSparkを使用する事で、アークプラズマにより発生する熱や発熱に伴う圧力及び温度上昇の他、アークプラズマのエネルギー効率等を解析できます。 株式会社ウェーブフロント 設計・生産支援 > CAE > シミュレーター Esgee Technologies

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世界で唯一のアーク放電専用解析ソフトウェア!点火プラグ、遮断器の解析に強い!!

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

点火プラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、重点メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ(プラズマジェット)
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ

基本情報アークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』

VizSparkはアークプラズマの特性だけではなく、共役熱伝達や流れとの連成を考慮に入れているため、幅広い目的に活用をして頂く事が可能です。

VizSparkを使用する事で、アークプラズマにより発生する熱や発熱に伴う圧力及び温度上昇の他、アークプラズマのエネルギー効率等を解析できます。

価格 -
※お問い合わせください
価格帯 100万円以上 500万円未満
納期 お問い合わせください
発売日 取扱い中
型番・ブランド名 Esgee Technologies
用途/実績例 ・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ(プラズマジェット)
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ
よく使用される業種 化学、石油・石炭製品、ゴム製品、ガラス・土石製品、セラミックス、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、産業用機械、ロボット、食品機械、機械要素・部品、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、光学機器、自動車・輸送機器、航空・宇宙、造船・重機、試験・分析・測定、医療機器

詳細情報アークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』

点火プラグ(スパークプラグ)の 気流下における誘導放電【解析事例】

点火プラグ(スパークプラグ)の気流下における誘導放電【解析事例】

放電の圧力による変化(10気圧)

点火プラグ(スパークプラグ)の 気流下における誘導放電【解析事例】

点火プラグ(スパークプラグ)の気流下における誘導放電【解析事例】

流速、圧力、化学種密度(5気圧)

遮断機中のアーク放電による圧力の変化【解析事例】

遮断機中のアーク放電による圧力の変化【解析事例】

圧力(Pa)

遮断機中のアーク放電による温度変化【解析事例】

遮断機中のアーク放電による温度変化【解析事例】

温度(K)

高輝度ランプ【解析事例】

高輝度ランプ【解析事例】

ガス種 Ar、 圧力 4 atm、 電圧 陽極: 50 V、 陰極: -50 V、 電極間距離 4 mm

浮力の効果を伴うキセノン高輝度ランプ【解析事例】

浮力の効果を伴うキセノン高輝度ランプ【解析事例】

ガス種 Xe、 圧力 1 MPa、 気体初期温度 1000 K、 電流 0.28 A、 電極間距離 20 mm

点火プラグ(スパークプラグ)の 気流下における誘導放電【解析事例】

点火プラグ(スパークプラグ)の気流下における誘導放電【解析事例】

放電の圧力による変化(2気圧)

点火プラグ(スパークプラグ)の 気流下における誘導放電【解析事例】

点火プラグ(スパークプラグ)の気流下における誘導放電【解析事例】

放電の圧力による変化(5気圧)

カタログアークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 表紙画像

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算は
もちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 表紙画像

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算は
もちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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半導体関連装置向けに特化した解析ソフトウェア

半導体関連装置向けに特化した解析ソフトウェア 表紙画像

◆2つのシステムでさまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・物理蒸着(PVD)真空蒸着(抵抗加熱,電子ビーム加熱,高周波誘導加熱、レーザー加熱)のシミュレーション
・スパッタリング(マグネトロン、イオンビーム)のシミュレーション
・プラズマエッチングのシミュレーション

など、半導体関連装置に特化したシミュレーションソフトです
◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算
・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能
・成膜速度分布
・電子とイオンの密度分布
・ラジカルと励起種の発生分布
・イオンフラックス分布
・エロージョン速度分布
など
◆お客様のニーズに合わせた対応◆
ソフト販売も含め、受託計算も実施しております。
※詳しくお気軽にお問い合わせください!

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スパッタリング装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

スパッタリング装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 表紙画像

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算は
もちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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半導体装置装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

半導体装置装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 表紙画像

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算は
もちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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CVD装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

CVD装置解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 表紙画像

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算は
もちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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取扱企業アークプラズマシミュレーションソフトウェア『VizSpark』

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株式会社ウェーブフロント

株式会社ウェーブフロントの企業理念は、 日本の製造業における研究開発~設計~製造~メンテナンスまでのプロセスをシミュレーションという観点からサポートし、 企業活動の高度化・効率化に寄与することです。 弊社ではこの企業理念の下、 CAEと設備資産管理、 信頼性に関するソリューションを提供しています。 CAEの分野では流体解析からマルチフィジックス解析まで各種シミュレーションソフトウェアと これに関連するプリプロセッサ・ポストプロセッサを、設備資産管理の分野では、各種の装置・設備のメンテナンス管理ソフトウェアを、機能安全・信頼性の分野では故障率のコンサルティングからツールの提供まで一貫したサービスを行っています。

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