株式会社昭和真空 光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ

蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ,ボールレンズへの成膜に最適

光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着,スパッタとは異なるALD(Atomic Layer Deposition)の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。

【概要】
○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理(25枚×2軸)
 ※基板形状や条件により異なります。
○基板回転機構付属

基本情報光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ

【特徴】
○高曲率レンズに対しても付き廻りよく成膜することが可能
○膜厚制御は成膜サイクル管理のみ
○オレフィン系樹脂など、低温成膜を必要とする基板にも対応可能
○バッチ内,バッチ間膜厚分布に優れている
○省電力、省スペース化に対応
○自動化への拡張が可能

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 http://www.showashinku.co.jp/product/new_Genesis.html
用途/実績例 【主な用途・応用例】
○ボールレンズ,ガルウィングレンズへの反射防止膜形成
○高曲率レンズ,樹脂レンズへの光学薄膜形成
○複雑な形状をした基板への均一な成膜

取扱企業光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ

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株式会社昭和真空

【営業種目】 ○水晶デバイス用、光学薄膜用、電子デバイス用などの  総合的な真空関連装置並びに真空機器等 ○真空蒸着装置、スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、  ドライエッチング・アッシング装置、真空冶金(溶解、熱処理、燒結、  脱ガス)装置、光学薄膜用モニター(多色式、単色式)、  IAD冷陰極イオンソース、液晶注入装置、有機EL用蒸着装置、その他

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