蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ,ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着,スパッタとは異なるALD(Atomic Layer Deposition)の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。
【概要】
○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理(25枚×2軸)
※基板形状や条件により異なります。
○基板回転機構付属
基本情報光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ
【特徴】
○高曲率レンズに対しても付き廻りよく成膜することが可能
○膜厚制御は成膜サイクル管理のみ
○オレフィン系樹脂など、低温成膜を必要とする基板にも対応可能
○バッチ内,バッチ間膜厚分布に優れている
○省電力、省スペース化に対応
○自動化への拡張が可能
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | http://www.showashinku.co.jp/product/new_Genesis.html |
用途/実績例 | 【主な用途・応用例】 ○ボールレンズ,ガルウィングレンズへの反射防止膜形成 ○高曲率レンズ,樹脂レンズへの光学薄膜形成 ○複雑な形状をした基板への均一な成膜 |
取扱企業光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ
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