基本情報圧電膜成膜装置
原理:DC,AC(デュアルマグネトロン)スパッタリング
特徴
AlN、AlScN(圧電)膜、Mo(メタル)膜の成膜
優れた応力制御/分布
結晶性
高スループット
高歩留まり
高いメンテナンス性
200 mm ウエハ対応
非常にコンパクトな設計
R&Dから量産装置まで
FBARアプリケーションでは、世界一のシェア
適用例
FBAR、MEMS、センサ向けに
納入実績
国内;複数台
海外:多数台納入
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | MEMS、FBARなどのフィルタ向け 国内;複数台 海外:多数台納入 |
取扱企業圧電膜成膜装置
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