基本情報圧電膜成膜装置
原理：DC，AC（デュアルマグネトロン）スパッタリング
特徴
AlN、AlScN（圧電）膜、Mo（メタル）膜の成膜
優れた応力制御/分布
結晶性
高スループット
高歩留まり
高いメンテナンス性
200 mm ウエハ対応
非常にコンパクトな設計
R&Dから量産装置まで
FBARアプリケーションでは、世界一のシェア
適用例
FBAR、MEMS、センサ向けに
納入実績
国内；複数台
海外：多数台納入
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | MEMS、FBARなどのフィルタ向け 国内；複数台 海外：多数台納入 |
取扱企業圧電膜成膜装置
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