JSWアフティ株式会社 原子層堆積装置『AFALD-8』
- 最終更新日:2023-01-23 09:46:29.0
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優れた段差被覆性と精密な膜厚制御!高品質な成膜が可能
『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が
できる原子層堆積装置です。
ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を
実現。
操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成ができます。
【特長】
■段差被覆性
■高精密な膜厚制御
■ピンホールフリー
■低ダメージ
■原料コスト削減
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報原子層堆積装置『AFALD-8』
【主な仕様】
■最大基板サイズ:Φ200mm
■装置サイズ(W×D×H):600×1700×2060mm
■装置重量:約700Kg
■リアクタタイプ:プラズマ、熱
■プラズマ方式:CCP、13.4MHz 最大1000w
■前駆体(金属プリカーサ)搭載数:最大4基
■反応ガス搭載数:最大3系統(マスフローコントローラ)
■最高基板加熱温度:400℃(設定値)
■真空ポンプ:ドライポンプ(ケミカル対応型)
■ホットウォール:標準搭載
■配管加熱:標準搭載 ※個別制御可
■圧力コントロール:自動調圧バルブ ※各室個別制御可
■プロセスガストラップ:標準搭載
■ユーザーインターフェース:PC/AT(パーソナルコンピュータ)
■モジュールコントローラー:PLC
■ユーティリティ
・電源:三相AC200V 50/60Hz 150A
・P-N2:0.3~0.6MPa 10SLM
・P-O2:0.3~0.6MPa 6SLM
・N2:0.3~0.6MPa 65SLM
・圧縮空気:0.5~0.7MPa 15SLM
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途】 ■原子層堆積装置として ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ原子層堆積装置『AFALD-8』
取扱企業原子層堆積装置『AFALD-8』
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