東邦化研株式会社 GCIB(ガスクラスターイオンビーム)による表面改質の受託加工

基本情報GCIB(ガスクラスターイオンビーム)による表面改質の受託加工

ＧＣＩＢ(ガスクラスターイオンビーム)とは、対象物の表面状態を、ナノレベルで平坦化させる技術です。

真空中で1,000個単位のAr原子が集まったクラスター(塊)をイオン化・加速させ、対象物に衝突させます。
高エネルギーで衝突させたArクラスターは、対象物の表面でクレーターの様に衝突痕が発生します。

この衝突を対象物の表面で繰り返すことで「表面改質」が可能となります。
それにより、3～10nmの面粗度を1nm程度まで平坦化する事が可能となります。


・対応基板
金属材の他、ＳＵＳ材やガラス基板等、材質に制約はございませんが、樹脂フィルム等は照射による熱が若干高くなる為、別途ご相談ください。

・対応サイズ
標準的な対応サイズは200×200×t20(mm)となります。それ以上大きいものは別途ご相談下さい。

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取扱企業GCIB(ガスクラスターイオンビーム)による表面改質の受託加工

東邦化研株式会社

イオンプレーティング・真空蒸着・スパッタリング・プラズマCVDによる薄膜の受託加工 (機能性薄膜の作製、パターニング加工、表面改質などの受託請負) 【主な適用分野】 ■電気・電子部品：電極膜、絶縁膜、表面保護膜、透明導電膜　など ■真空装置部品：汚染防止・絶縁膜・耐食膜・ボンディングメタル　など ■航空宇宙関連：軽量化・防蝕・固体潤滑　など ■機械部品・金型：耐摩耗・離型性・防蝕・表面硬化　など

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