株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 FLOSFIA

液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！

『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、
成膜反応（CVD）させる技術です。

霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に
酸化物半導体薄膜を作製できます。

当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開
することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野
で利用することができます。

【特長】
■液体、特に水から作る
■ミストの状態で原料を成膜室に供給可能
■原料の安全性が高い
■真空ポンプが不要
■大面積化・低コスト・小型化・高いスループットが実現可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://flosfia.com/technology/

基本情報株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介

【膜の種類】
■酸化ガリウム
■酸化鉄
■酸化クロム
■酸化シリコン・アルミ
■酸化マグネシウム
■酸化銅・ニッケル
■酸化チタン
■酸化インジウム
■酸化リチウム
■酸化亜鉛・酸化スズ

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【応用例】 ■パワーデバイス ■LED用基板 ■半導体・磁性材料 ■耐腐食性膜・保護膜 ■絶縁膜 ■酸化物PVのP型伝導層 ■光触媒 ■ディスプレイ透明伝導膜 ■LIBの正極・負極・電解質 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。