テルモセラ・ジャパン株式会社 卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』 http://www.ipros.jp/public/product/image/dd9/2000316747/IPROS3958338836536278741.jpg 【そのほかの特長】 ◎nanoPVD-S10A『卓上型マグネトロン式スパッタリング装置』 ■限られたラボスペースにもフィットするスモールフットプリント ■高解像度7inch前面タッチパネルで簡単操作 ■高品質スパッタ成膜を卓上サイズで実現 ■2inchマグネトロンカソード×最大3源 ■USBをPCに接続し、データロギング ◎nanoPVD-T15A『卓上型高性能真空蒸着装置』 ■成膜プログラムを自動制御 ■コンパクトサイズ:804(W)×530(D)×512(H)mm ■重量:40kg~70kg(装置構成による) ■Φ2inchもしくはΦ4inch基板 ■蒸着源:抵抗加熱(TE×最大2基)、有機蒸着源(LTE×最大4基 ※抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ■オプション:上下昇降(50mmストローク)、基板加熱Max500℃、基板回転機構 ■高精度ワイドレンジ真空ゲージ ※詳しくはカタログをダウンロードしてご覧ください。 テルモセラ・ジャパン株式会社 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > 蒸着装置 nanoPVD

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高機能・コストパフォーマンスに優れたR&D用薄膜実験装置開発に必要な真空薄膜機能の全てをコンパクトな装置に凝縮

『nanoPVDシリーズ』は、材料研究・新素材開発・電子デバイス開発などの基礎実験・研究開発用に多目的にご使用いただける小型・高性能真空薄膜実験装置です。

nanoPVD-S10Aは、Ф2inchマグネトロンカードを最大3基搭載、基板回転・上下昇降・加熱500℃シャッターなどのオプションが充実、RF・DC電源両対応、最大3系統のガス入力(MFC制御)に対応。充実した基本性能と豊富なオプションで高品質の成膜が可能となります。

nanoPVD-T15Aは、抵抗加熱蒸着源を最大2基、有機蒸着源最大4基まで搭載し、金属膜・絶縁膜の多層膜、連続成膜が可能な基本性能に優れた蒸着装置です。

【特長】
■SUS304高真空チャンバー:真空到達度5x10-5Pascal
■PLC自動制御、11"タッチパネルによる直感的操作
■装置寸法:804(W)x530(D)x512(H)mm(*T15A寸法)

※上記2製品、及び【nano BenchTopシリーズダイジェストカタログ】【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】のカタログを進呈中です!ダウンロードしてご覧ください。

動画で製品特徴をわかりやすくご紹介卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

動画が見られない場合は、こちらからご覧ください。(外部サイト)

基本情報卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

【そのほかの特長】
◎nanoPVD-S10A『卓上型マグネトロン式スパッタリング装置』
■限られたラボスペースにもフィットするスモールフットプリント
■高解像度7inch前面タッチパネルで簡単操作
■高品質スパッタ成膜を卓上サイズで実現
■2inchマグネトロンカソード×最大3源
■USBをPCに接続し、データロギング

◎nanoPVD-T15A『卓上型高性能真空蒸着装置』
■成膜プログラムを自動制御
■コンパクトサイズ:804(W)×530(D)×512(H)mm
■重量:40kg~70kg(装置構成による)
■Φ2inchもしくはΦ4inch基板
■蒸着源:抵抗加熱(TE×最大2基)、有機蒸着源(LTE×最大4基 ※抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで)
■オプション:上下昇降(50mmストローク)、基板加熱Max500℃、基板回転機構
■高精度ワイドレンジ真空ゲージ

※詳しくはカタログをダウンロードしてご覧ください。

価格 -
※お問い合わせください
価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
発売日 取扱い中
型番・ブランド名 nanoPVD
用途/実績例 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
よく使用される業種 産業用機械、機械要素・部品、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、製造・加工受託、その他製造、その他

ラインナップ

型番 概要
nanoPVD-S10A Φ2inch, Φ4inch基板用
nanoPVD-S10A-WA Φ6inch, Φ8inch基板用
nanoPVD-T15A 真空蒸着装置 抵抗加熱蒸着源(Metal薄膜) x 最大2基, 有機蒸着源(OLEDなど有機薄膜)x 最大4基

カタログ卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』※カタログ進呈

当社は、限られたスペースに設置できる小型設計に加えて、
高品質の薄膜成形を可能にした『nanoPVDシリーズ』をラインアップしています。

その中でも「nanoPVD-T15A 卓上型 抵抗加熱式真空蒸着装置」は、
大型機にも劣らない膜質と、多数の機能を備えたフラッグシップ機です。

【特長】
■簡単なタッチパネル操作で、PLCの全自動制御が可能
■直感操作が可能なHMIと、高解像度7inch前面パネル
■USB接続で、ログの保存・自動成膜レシピの作成保存が可能

他にも「nanoPVD-S10A 卓上型マグネトロン スパッタリング装置」は、
3源カソード+O2&N2追加ガス2系統(MFC制御)、
RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)、同時成膜といった機能が満載です。

※ただいま、上記2製品のカタログをまとめて進呈中です!
 ダウンロードしてご覧ください。

このカタログを電子ブック形式で閲覧できます。 電子ブックの閲覧方法はこちら

★MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置★_製品案内2017

研究開発・基礎研究分野に寄与する「モジュラー式 フレキシブル薄膜実験装置」MiniLab(みにらぼ)シリーズを紹介致します。

◎ MiniLab-026/090エッチング・アニールステーション
RF/DCプラズマ表面改質・基板加熱アニールステージを搭載した26L、90Lの小型チャンバーをグローブボックス(又はラック式もあります)に収納
  
◎ MiniLab-M307ベルジャー式真空蒸着装置
ローコスト・ハイスペック コストパフォーマンスに優れた真空蒸着専用機

◎ MiniLab-GBグローブボックス式薄膜実験装置
作業ベンチ内にチャンバーを収納、ベンチ下に制御ラックフレームを設置したグローブボックス一体型の省スペース薄膜実験装置

◎ MiniLab超高温実験炉シリーズ Max2900℃
*WCCF型(Max1400℃, SIC3コーティングヒーター, アルミナ断熱材)超高温クリーンアニール炉も新たに追加しました。

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★nano BenchTopシリーズ 卓上型薄膜実験装置★_製品案内2017

大学・研究機関・企業開発部門などでの実験用途に幅広くラインナップを増やしました。スタンドアロン機なみの高機能を卓上サイズの装置に凝縮したはいコストパフォーマンス装置です。

◉ nanoPVD-S10A 卓上型スパッタリング装置
Φ2inchマグネトロンカソード x 3基
最大構成:抵抗加熱蒸着源x 2基、有機蒸着源 x 4基
◉ ANNEAL 卓上型ウエハーアニール装置 Max1000℃
Φ6inchまでのウエハーを、Max1000℃の高温アニール処理
3種類のヒーターオプション、MFC x 3系統ガス制御
◉ nanoETCH 卓上型ドライエッチング装置
グラフェン, 2D結晶の安定した剥離・転写が可能, nanoCVDとの併用で高品質グラフェン合成実験を実現
◉ nanoETCH 卓上型ドライエッチング装置
グラフェン, 2D結晶の安定した剥離・転写用、又その他デバイス薄膜開発用ソフトエッチング
◉ nanoEM 卓上型コーター(TEM/SEM・顕微鏡試料作成用コーター)
◉ nanoCVD 卓上型グラフェンCNT合成装置
◉ nanoPVD-WPG 卓上型プラズマCVD装置

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取扱企業卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター(1〜12inch) 2. R&D用真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空用熱電対 6. 真空コンポーネント

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