モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社 半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス
- 最終更新日:2022-07-25 11:10:37.0
- 印刷用ページ
シリコン半導体・SiCおよびGaN製パワー半導体製造プロセスに対応。高温、真空、腐食性ガス雰囲気中などで優れた性能を発揮。
パイロリティックボロンナイトライド(PBN)やタンタルカーバイドは高い耐熱性や耐腐食性を有し、
急速昇降温・超高温を容易に実現できるセラミックスです。
PBNは色々な形状に蒸着製造または加工が可能。
超高温ヒータや高温静電チャック、グラファイト保護コーティングもございます。
PBN機能部品は有機ELの製造プロセス、半導体単結晶成長プロセス、
その他の高温真空プロセスなどの改善に貢献します。
【特長】
■12インチウェハ(300mmウェハ)にも対応
■超高真空・高温(1700℃※)条件で使用できる
■高温下でも高い電気絶縁性を維持できる
■靭性があるため割れにくい
■化学的に安定
※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス
※社内テストによる実績です。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 高性能ヒータおよび静電チャック 用途 ・急速昇降温によるウェハ熱処理 ・窒化物半導体の成膜 ・PVD (スパッタ、MBE、蒸着など) ・イオン注入 ・ガラス加熱 ・真空中での高温加熱 PBN(超高純度窒化ホウ素)部品 用途 ・真空蒸着用ルツボ ・結晶成長用ルツボ ・反応・焼成用容器 ・高温での電気絶縁部品 ・高温腐食性雰囲気での部品 グラファイト保護コーティング 用途 ・超高温用ヒータ ・窒化物半導体成膜用部品 ・ウェハトレイ ・高温用歯車 ・SiC半導体結晶成長および成膜用部品 |
カタログ半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス
取扱企業半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス
半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックスへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。