株式会社メック 機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉

機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉 http://www.ipros.jp/public/product/image/b32/2000326464/IPROS7930157181801060309.jpg 【仕様】 ■対象ワーク:50mm~125mm ■乾燥方式:ホットプレート式 乾燥方式 ■能力(温度) ・PID制御方式:~200℃ ・ヒーター:4区分 ・加熱時間:8秒~10分(MAX213分) ・加熱有効寸法:L800mm×W150mm(200mm×4ch) ■能力(作動) ・搬送方式:ウォーキング式3本(接触面シリコン使用)(上下シリンダ) ・搬送距離:100mm/ビッチ ・搬送速度:10mm/s~500mm/s ・ビーム外幅:88mmビッチ42mm ■外形寸法:W1200×D200×H165 ■質量:50kg  ■消費電力:MAX2.8kw 平常時500W ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 株式会社メック 科学・理化学機器 > 理化学機器 > 乾燥機器

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1/3~1/4の小型化で乾燥時間が1/3~1/4に短縮になった事例あり!多品種小ロットの乾燥炉に適した「超小型炉」

『WD-100シリーズ』は、省スペースと段取り替えの良さを追求した乾燥炉です。

対象ワークサイズは50mm~125mm。
ホットプレートの高速加熱を最大限生かす、搬送システムの追求により、
高速搬送とダイレクト加熱を達成しました。

マルチサイズ、高速搬送、高速加熱、低フットプリントに対応しています。

【特長】
■IR雰囲気炉と比べ、乾燥が最大10倍の早さ
■IR雰囲気炉と比べ、アイドルタイムが最短1/20に低減
■溶剤回収でクリーン

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉

【仕様】
■対象ワーク:50mm~125mm
■乾燥方式:ホットプレート式 乾燥方式
■能力(温度)
・PID制御方式:~200℃
・ヒーター:4区分
・加熱時間:8秒~10分(MAX213分)
・加熱有効寸法:L800mm×W150mm(200mm×4ch)
■能力(作動)
・搬送方式:ウォーキング式3本(接触面シリコン使用)(上下シリンダ)
・搬送距離:100mm/ビッチ
・搬送速度:10mm/s~500mm/s
・ビーム外幅:88mmビッチ42mm
■外形寸法:W1200×D200×H165
■質量:50kg 
■消費電力:MAX2.8kw 平常時500W

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格 -
※お問い合わせください
価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
発売日 取扱い中
用途/実績例 【用途】
■多品種、小ロットの乾燥炉として

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
よく使用される業種 産業用機械、機械要素・部品、産業用電気機器、建築・土木・エンジニアリング、製造・加工受託、その他製造

カタログ機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉

ホットプレート乾燥炉『WD-100シリーズ』

ホットプレート乾燥炉『WD-100シリーズ』 表紙画像

『WD-100シリーズ』は、省スペースと段取り替えの良さを追求した乾燥炉です。

対象ワークサイズは50mm~125mm。
ホットプレートの高速加熱を最大限生かす、搬送システムの追求により、
高速搬送とダイレクト加熱を達成しました。

マルチサイズ、高速搬送、高速加熱、低フットプリントに対応しています。

【特長】
■乾燥が最大10倍早い
■アイドルタイム1/20に低減の実績あり
■溶剤回収でクリーン

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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取扱企業機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉

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