株式会社協同インターナショナル ナノパターン露光装置『PhableR 100』
- 最終更新日：2021-04-30 11:46:36.0
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回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システム
『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの
露光システムです。
フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。
独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。
サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン
作製が行えます。
【特長】
■300nmピッチ以下の高解像度300nmピッチ以下の高解像度
■DUV光源選択で150nmピッチを実現
■全面露光
■ノンコンタクト：マスクをダメージやコンタミネーションから保護
■事実上無制限の深さ方向フォーカス
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報ナノパターン露光装置『PhableR 100』
【その他の特長】
■非平坦基板に向く（例：エピウェハ）
■高均一性
■オーバーレイアラインメント能力
■一般的なフォトレジストや材料が利用可能
■コンベンショナルなマスクが利用可能(クロムオングラス)
■マスクに対して最大2倍の分解能のパターニングを実現
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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カタログナノパターン露光装置『PhableR 100』
取扱企業ナノパターン露光装置『PhableR 100』
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■電子MEMS ■ライフサイエンス ■食品 ■畜産養豚機材
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