テルモセラ・ジャパン株式会社 超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈

超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈 http://www.ipros.jp/public/product/image/c32/2000344934/IPROS6696817565322170657.jpg 【仕様】 ◎対応基板サイズ: φ1/2/4inch ◎ヒーター素線材質: NiCr 素線(Max 1000℃) カンタル素線(Max 1200℃) タンタル素線(Max 1600℃) ◎熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売) ◎取付用スタッドボルト ◎オプション:  標準外素線(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)  取付ブラケット  ホルダー設置用タップ穴加工 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 テルモセラ・ジャパン株式会社 科学・理化学機器 > 加熱装置・炉 > 加熱装置 BHS

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MAX1600℃・安価・短納期!大学実験室・研究機関のお客様限定製品

『BHシリーズ』は用途に応じて3種類のサイズと3種類の素線材質を
選べる超高温薄膜実験用基板加熱ヒーターです。

サイズおよび素線材質を標準化し、
部品在庫を持つことで短納期かつ低コスト化を実現しました。

大学実験室・研究機関のお客様を対象とした数量限定の製品です。

【特長】
■予備ヒーター素線との交換が容易
■取り扱いが簡単
■オプションで標準外素線もご用意(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)

※製品について詳しくは資料をご覧ください。
お問い合わせもお気軽にどうぞ。

基本情報超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈

【仕様】
◎対応基板サイズ: φ1/2/4inch
◎ヒーター素線材質:
NiCr 素線(Max 1000℃)
カンタル素線(Max 1200℃)
タンタル素線(Max 1600℃)
◎熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売)
◎取付用スタッドボルト
◎オプション:
 標準外素線(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)
 取付ブラケット
 ホルダー設置用タップ穴加工

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

価格 ※詳細は当社までお問い合わせください。
価格帯 10万円以上 50万円未満
納期 お問い合わせください
※仕様により納期が変動します、当社までお問い合わせ下さい。
発売日 2017-07-01 00:00:00.0
型番・ブランド名 BHS
用途/実績例 PVD(スパッタ, ALD, PLDなど)CVD基板加熱ヒーター、分析装置試料加熱用ステージ、高温基板加熱ステージ・ホルダー、など。
よく使用される業種 繊維、化学、石油・石炭製品、ゴム製品、セラミックス、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、産業用機械、機械要素・部品、産業用電気機器、電子部品・半導体、光学機器、自動車・輸送機器、航空・宇宙、環境、医療機器、教育・研究機関、官公庁、鉱業

カタログ超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃ 表紙画像

3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)3種類のヒーター素線材質(NiCr, Kanthal, Tantalum)に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。
大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。

【特徴】
● 予備ヒーター素線との交換が容易
● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱)

【対応基板サイズ】
◎ Φ1inch
◎ Φ2inch
◎ Φ4inch
【ヒーター素線材質】
◎ Max 1000℃:NiCr 素線(真空中, Ar, N2, He ,O2, H2)
◎ Max 1200℃:カンタル素線_(真空中, Ar, N2, He, O2, H2)
◎ Max 1600℃:タンタル素線_(真空中, Ar, He)

【標準付属品】
● 熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売)
● M6スタッド, もしくは取付用支柱

【オプション】
● 標準外素線も用意しております(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)
● 取付ブラケット
● ホルダー設置用タップ穴加工

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター 表紙画像

「半導体、電子基板成膜プロセス装置での高温基板加熱機構。」
◎ 超高真空・酸素・水素雰囲気中・プロセスガス中での使用に対応
◎ 基板Zシフト昇降、基板回転機構、及びRF/DCバイアス印可が可能。
◎ 雰囲気に応じたエレメントを選択:SiC, グラファイト, CCコンポジット, グラファイト/SiCコーティング, NiCrヒーター
◎ 各種真空フランジ接続:ICF, NW, VF

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【セラミック・トップ・ヒーター】真空成膜用_超高温基板加熱ヒーター Max1800℃_1inch〜φ800mm

【セラミック・トップ・ヒーター】真空成膜用_超高温基板加熱ヒーター Max1800℃_1inch〜φ800mm 表紙画像

「セラミックトップヒーター」は、ヒーターエレメントにNiCr線、トッププレートにAlN窒化アルミプレートを用いた、高温・加熱効率・均熱性に優れたホットプレートです。ヒーターエレメントは、NiCr、及びグラファイト、CCCなどのカーボンヒーター、SiCヒーター、セラミックコーティングなど使用条件に応じて選択が可能です。半導体製造装置・各種真空装置内(真空蒸着装置、スパッタリング装置、CVD装置)に活躍します。

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【SHシリーズ 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)

【SHシリーズ 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃) 表紙画像

トッププレートにインコネル、又はBN(Boron Nitride)セラミックプレートを採用した、熱伝導率・熱放射効率の良い、均熱性に優れた成膜装置搭載・成膜実験用真空ホットプレートです。
◎ CVD, PVD(スパッタ, PLD, ALD装置等)の真空基板加熱用途
◎ 各種成膜実験、材料分析などの高温加熱に
◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用

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取扱企業超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈

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テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター(1〜12inch) 2. R&D用真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空用熱電対 6. 真空コンポーネント

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