テルモセラ・ジャパン株式会社 スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置

抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。
◉組み合わせは3種類
1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2
2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2
3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ)

・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm
・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ)
・基板回転、上下昇降ステージ
・Max500℃基板加熱ヒーター
・水晶振動子膜厚センサー
・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)

基本情報スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

【仕様】
◉ 対応基板:〜Φ4inch
◉ スパッタリング:2"カソード x 最大3源
◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4)
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ APC自動圧力コントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング
◉ 他、多彩なオプションを用意
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール

価格情報 詳細は当社までお問い合わせください。
納期 お問い合わせください
※仕様により納期が変動します、当社までお問い合わせ下さい。
型番・ブランド名 nanoPVD-ST15A
用途/実績例 各種電子デバイス薄膜実験
金属薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応

カタログスパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

取扱企業スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

iPROS_Thermocera-image-2.jpg

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

テルモセラ・ジャパン株式会社