株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 半導体材料『酸化ガリウム』

日本発の新しい半導体材料!世界中の研究・開発機関へ優れた材料を届けます

『酸化ガリウム』は、融液成長法でバルク結晶の製造を行うため、
高速な成長が可能な半導体材料です。

気相成長法でバルク結晶を製造するGaNやSiCと比べ、基板の低コスト化が
可能とされています。

また、絶縁破壊電界強度がGaNやSiCより大きいことが予測されており、
スイッチング損失を小さく保ったまま、6000V以上の大きな耐圧を持つ
パワーデバイスを作製できることが期待されています。

【特長】
■低コストでバルク単結晶の製造が可能
■GaNやSiCを超える高耐圧パワーデバイスの可能性

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基本情報半導体材料『酸化ガリウム』

【酸化ガリウムの活用例】
■次世代パワーデバイス
 ・バッテリー駆動時間の大幅アップや送電時の電力損失減少を実現
■過酷環境下デバイス
 ・放射線の降り注ぐ宇宙空間や、800℃を超えるボイラー炉内でも駆動
■医療応用分野
 ・粒子がん治療やPET検査など
■高性能イメージセンサ
 ・大きく重い4K・8Kの高精細カメラがスマホへ搭載可能に

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カタログ半導体材料『酸化ガリウム』

取扱企業半導体材料『酸化ガリウム』

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■酸化ガリウムエピタキシャルウエハ(エピウエハ)の製造販売 ■単結晶およびその応用製品の製造販売 ■半導体およびその応用製品の製造販売

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