株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 半導体材料『酸化ガリウム』
- 最終更新日:2018-01-25 15:16:14.0
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日本発の新しい半導体材料!世界中の研究・開発機関へ優れた材料を届けます
『酸化ガリウム』は、融液成長法でバルク結晶の製造を行うため、
高速な成長が可能な半導体材料です。
気相成長法でバルク結晶を製造するGaNやSiCと比べ、基板の低コスト化が
可能とされています。
また、絶縁破壊電界強度がGaNやSiCより大きいことが予測されており、
スイッチング損失を小さく保ったまま、6000V以上の大きな耐圧を持つ
パワーデバイスを作製できることが期待されています。
【特長】
■低コストでバルク単結晶の製造が可能
■GaNやSiCを超える高耐圧パワーデバイスの可能性
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基本情報半導体材料『酸化ガリウム』
【酸化ガリウムの活用例】
■次世代パワーデバイス
・バッテリー駆動時間の大幅アップや送電時の電力損失減少を実現
■過酷環境下デバイス
・放射線の降り注ぐ宇宙空間や、800℃を超えるボイラー炉内でも駆動
■医療応用分野
・粒子がん治療やPET検査など
■高性能イメージセンサ
・大きく重い4K・8Kの高精細カメラがスマホへ搭載可能に
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