小型・低価格・高精度・使い易さを追求して開発されたエリプソメーター
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性（屈折率など）を非接触・高精度に測定します。
基本情報膜厚測定装置（エリプソメーター）
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性（屈折率など）を非接触・高精度に測定します。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | レーザーエリプソメーター |
| 用途／実績例 | レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性（屈折率など）を非接触・高精度に測定します。 |
取扱企業膜厚測定装置（エリプソメーター）
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