ナラサキ産業株式会社 卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』
- 最終更新日：2018-06-25 18:27:46.0
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『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50Ｗ型で、操作も簡単、気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。
独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の前処理（配線の露出）から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。
また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。
【特長】
■卓上サイズでコンパクト
■局所的なプラズマ加工が可能（Φ0.5mm～）
■低残渣かつ高速加工を実現（10μm/mim）
■低出力のRF電源（最大出力50W未満）
■試料をステージで移動させた広範囲の加工が可能
※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』
【仕様（抜粋）】
■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H)
■重量：20kg
■真空ポンプ：ドライポンプ（15L）
■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm
■対応可能ガス：CF4、N2、D.A、Ar、O2等
※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■表面改質 ■半導体デバイスの絶縁膜除去 ■半導体デバイスの裏面加工 ■プラズマクリーニング ■各種材料のエッチング ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』
取扱企業卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』
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1．セラミックス／ガラス 酸化物系セラミックス アルミナ、ジルコニア、サファイア、コージライト等 窒化／炭化物系セラミックス 窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ、炭化ケイ素、R-SiC等 マシナブルセラミックス ホトベール、マコール、シェイパルハイエムソフト ガラス 石英ガラス、テンパックスガラス、光学系コーティング等 2．金属受託加工(高融点、超硬、特殊、一般問わず全般) モリブデン、タンタル、ニオブ、チタン、超硬各種、インコネル ハステロイ、ニッケル、アンビロイ、SUS、アルミ、その他各種金属 電子ビーム溶接、レーザー加工各種 3．エンジニアリングプラスチックス全般受託加工 ポリイミド各種、PBI、PEEK他、CFRP 4．カーボン 高純度等方性黒鉛、ガラス状カーボン等 5．表面処理 イオンプレーティング、CVD、フッ素コーティング、セラミックス溶射、ブラスト処理、精密洗浄、エッチング、 【実績業界】 ・半導体関連 ・自動車関連 ・電子部品関連 ・工作機械関連 ・航空宇宙関連 ・医療関連 等数百社のお客様にご利用頂いております。
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