フォトマスク洗浄装置（セミオート）ソフエンジニアリング

シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。
■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。
■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富
■基板サイズごとにシリーズ化した標準装置ですが、カスタム対応も可能です。
■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」
　◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載
　◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去
　◎スクラブブラシは、ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態で選択
■各種オプションで多様なニーズに対応
　◎<洗剤の自動希釈><ブラシの自己超音波洗浄><CO2イオナイザー><MS洗浄>
■基板のC/C自動搬送処理装置にも対応実績豊富

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枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置

基本情報フォトマスク洗浄装置（セミオート）

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取扱企業フォトマスク洗浄装置（セミオート）

株式会社ソフエンジニアリング

＊ガラス、石英、サファイア、Si、GaN、GaAs、InP、SiC等各種基板素材自身の研磨後洗浄から基板上に形成される各種素子パターン製造に対応した「現像」「洗浄」[エッチング」「剥離・リフトオフ」等キーワードに関係するウェット系処理装置の提供が可能です。　　★基板製造関連：　　　　「「研磨・研削・ポリッシュ後洗浄」「CMP後洗浄」etc. 　　★フォトリソ関連ウェット系処理装置：　　　　「コート」「受入れ洗浄」「現像」「エッチング」「剥離」「最終洗浄」etc. 　　★電子デバイス等素子パターン製造関連：　　　　「現像」「エッチング」「剥離」「リフトオフ」「RCA」etc. ＊御社からの御相談事を連絡いただければ、製造プロセス・装置関連の両面から最適な提案・回答が可能です。　ご連絡をお待ちしています。