山口精研工業株式会社 酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』
- 最終更新日:2019-06-26 13:59:11.0
- 印刷用ページ
お客様に好適なポリッシング剤をカスタムメイドでご提供します!
当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、
高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。
SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、
ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを
対象としています。
【特長】
■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である
■難加工性材料である、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、サファイア等に
対して、高い研磨Rate、研磨面品質を実現
■お客様のニーズ・ご要望にお答えしカスタマイズした研磨剤を提供
※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
基本情報酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』
【その他製品一覧】
■ハードディスク(HD)用研磨剤製品
■パワー半導体基板用研磨剤製品
■化合物半導体基板用研磨剤製品
■各種セラミックス材料用研磨剤製品
■金属材料用研磨剤製品
■プラスチックレンズ用研磨剤製品
■その他研磨剤製品
※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。 |
カタログ酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』
取扱企業酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』
酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。