竹田印刷株式会社 フォトマスク『静電破壊対策用Crガラスマスク』|半導体関連マスク

フォトマスク『静電破壊対策用Crガラスマスク』|半導体関連マスク http://www.ipros.jp/public/product/image/1f6/2000453732/IPROS38532160304366239990.jpeg 【仕様】 ◎最大マスクサイズ:800×800×12t ◎コート厚み:0.125μm ◎精度ランク ・Mode-A':最狭 0.75L/Sμm / 短寸法精度 ±0.075μm / 長寸法精度 ±0.5μm ・Mode-A :最狭 1.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.1μm / 長寸法精度 ±1.0μm ・Mode-B :最狭 2.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.2μm / 長寸法精度 ±2.0μm ・Mode-C :最狭 3.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±1.5μm ・Mode-D :最狭 5.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±2.0μm ・Mode-E :最狭 8.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 1.5μm / 長寸法精度 ±4.0μm 【用途】 ◎PWB・FPC・電子部品などのパターン原版 ◎キャリブレーションプレート(測定・装置の調整) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 竹田印刷株式会社 半導体関連マスク事業 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > フォトマスク
導電層が静電破壊を抑制!高い歩留まり率で、安定した品質・コスト・納期を実現

当社の『静電破壊対策用Crガラスマスク』は、帯電物が接近してもパターン破壊が起こりにくいフォトマスクです。

大量の露光回数に対しても、破損することなく1枚で対応可能。
マスクの取り替えにかかっていたコストを削減できるほか、安定した生産スピードを維持できるため、生産効率アップにも貢献します。

また、豊富な静電破壊対策仕様品の量産の経験を活かし、
一般仕様品と同等の工期で、高い除電性能のフォトマスクを提供いたします!

【静電破壊対策用Crガラスマスクの特長】
■帯電した人や設備が接近しても破損しづらい
■高い防汚性・清掃性
■微細性に優れ、高精度な意匠形成が可能
■電子部品のフォトマスクやキャリブレーションプレートに

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

基本情報フォトマスク『静電破壊対策用Crガラスマスク』|半導体関連マスク

【仕様】
◎最大マスクサイズ:800×800×12t
◎コート厚み:0.125μm
◎精度ランク
・Mode-A':最狭 0.75L/Sμm / 短寸法精度 ±0.075μm / 長寸法精度 ±0.5μm
・Mode-A :最狭 1.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.1μm / 長寸法精度 ±1.0μm
・Mode-B :最狭 2.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.2μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-C :最狭 3.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±1.5μm
・Mode-D :最狭 5.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-E :最狭 8.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 1.5μm / 長寸法精度 ±4.0μm

【用途】
◎PWB・FPC・電子部品などのパターン原版
◎キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

カタログフォトマスク『静電破壊対策用Crガラスマスク』|半導体関連マスク

取扱企業フォトマスク『静電破壊対策用Crガラスマスク』|半導体関連マスク

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竹田印刷株式会社 半導体関連マスク事業

● 半導体関連各種マスクの設計・製造・販売および機械機器類の販売

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