西華デジタルイメージ株式会社 真空成膜装置・高真空装置
- 最終更新日：2019-07-16 10:09:55.0
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お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置
高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現
基本情報真空成膜装置・高真空装置
真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取り扱ってまいりましたが、同社の真空成膜装置をラインナップに追加しました。VINCI社は高真空装置で定評のあったMECA2000社を傘下に収め、各種成膜装置（PVD、CVD、PLD、MBE）を提供、欧州を中心に多くの納品実績があります。レーザーやLEDの素子に使われる半導体素子を制作する際のプロセスに最適です。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 各種半導体 ディスプレイ（有機ELデバイス等） センサー 薄膜太陽電池 航空宇宙用デバイス 光学デバイス 各種コーティング（硬化処理、加飾処理） |
カタログ真空成膜装置・高真空装置
取扱企業真空成膜装置・高真空装置
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粒子計測事業 (レーザー回折式粒度分布計FLD、位相ドップラー式粒子解析計PDI、画像法による粒子解析システム) 流体・燃焼計測事業 (流速計測システムPIV、LDV、表面圧力計測 PS、燃焼計測システムLIF) 素材計測事業 (非接触歪み・変位計測システム DIC、薄膜・多孔質素材評価装置 ポロメーター、ナノ領域力学試験機 ナノインデンター、電顕用デジタルカメラ、ブリネル硬度計)
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