株式会社イオンテクノセンターイオン注入装置のラインナップ

最終更新日：2019-11-16 17:44:44.0
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低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。

室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。

弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8,000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。

関連リンク - https://iontc.co.jp/project/ion/

基本情報イオン注入装置のラインナップ

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用途／実績例	半導体へのイオン注入では国内企業様、大学様に多くご利用頂いております。