ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術！真空蒸着の原理についてご紹介
『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、
蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて
薄膜を形成する成膜技術です。
当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で
加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用しています。
【特長】
■ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱
■蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて薄膜を形成
■抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用
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