株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに必要な露光後ベーク(PEB)対応自動レジスト現像装置です。

枚葉式で現像、全面露光(反転露光、イメージリバーサル)、ベーク、クーリング機能を搭載。

リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。
当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定させます!

また、ネガレジストの露光後ベークに使用することで安定プロセスが得られます。

マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、
設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。

TMAH、コリン水溶液、Na2CO3等多彩な薬液に実績があります。

また、薄いウエハでの実績も多数あります(ウエハ厚さ150umなど)のでご相談ください。

【特長】
■PEBによる逆テーパー角の安定
■自動ウエハサイズ認識機能
■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーの対応可
■フットプリントの低減
■生産量に合わせたラインアップ

デモ設備も常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします!

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基本情報逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

【主な仕様】
■カセットステージ:2組
■スピン現像ユニット:2組
■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12"
■現像ノズル:1組/CUP
■リンスノズル:1組/CUP
■ベークユニット:2組(Max200℃)
■クーリングユニット:1組
■センタリングユニット:1組
■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4"本体)
          1600×2500×1800(Φ12"本体)
■ウェハ搬送ロボット:1組(ダブルアームクリーンロボット)

その他オプション多数!

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
※4~5ヶ月(通常)、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名 RDA
用途/実績例 LED、LD、SAWフィルター、パワーデバイス等の分野で実績があります。

カタログ逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

取扱企業逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

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株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半導体製造装置の製造販売 半導体素子製造用材料の販売 半導体素子の製造販売 半導体素子製造に関するコンサルティング及びマーケティング業務

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