ノベリオンシステムズ株式会社 高出力ECRプラズマ源『EPS-120』
- 最終更新日:2020-03-25 16:32:30.0
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微細加工装置に適用可能!ECR放電型の高出力プラズマ源をご紹介します
『EPS-120』は、微細加工装置に適用できるECR(電子サイクロトロン共鳴)
放電型の高出力プラズマ源です。
複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト。
ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワーをはじめ、
反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源などに応用できます。
【特長】
■独創的な磁石構成による大容積ECR磁場
■強力な冷却システムによるkW級大電力動作
■メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
■複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報高出力ECRプラズマ源『EPS-120』
【装置仕様】
■接続真空ポート口径:φ120mm
■接続導波管規格:WR340
■適合マイクロ波周波数:2.45GHz
■許容マイクロ波電力:最大2,000W
■冷却方式:水冷
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【応用例】 ■ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワー ■反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源 ■イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ高出力ECRプラズマ源『EPS-120』
取扱企業高出力ECRプラズマ源『EPS-120』
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