ノベリオンシステムズ株式会社 高出力ECRプラズマ源『EPS-120』

微細加工装置に適用可能!ECR放電型の高出力プラズマ源をご紹介します

『EPS-120』は、微細加工装置に適用できるECR(電子サイクロトロン共鳴)
放電型の高出力プラズマ源です。

複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト。

ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワーをはじめ、
反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源などに応用できます。

【特長】
■独創的な磁石構成による大容積ECR磁場
■強力な冷却システムによるkW級大電力動作
■メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
■複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報高出力ECRプラズマ源『EPS-120』

【装置仕様】
■接続真空ポート口径:φ120mm
■接続導波管規格:WR340
■適合マイクロ波周波数:2.45GHz
■許容マイクロ波電力:最大2,000W
■冷却方式:水冷

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【応用例】
■ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワー
■反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源
■イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソース

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログ高出力ECRプラズマ源『EPS-120』

取扱企業高出力ECRプラズマ源『EPS-120』

44.PNG

ノベリオンシステムズ株式会社

■プラズマ応用装置の開発と製造販売  ・ECRラインビームイオン源(ELBSシリーズ)  ・モジュール型ECRプラズマ源(EPSシリーズ)  ・ミリング用低エネルギー大電流イオン源  ・内径スパッタコーティング装置  ・各種プラズマ応用装置の開発受託と技術コンサルティング 他 ■特殊成膜プロセスの加工受託  ・CFCダイバータブロック(核融合実験炉の炉壁)への接合界面処理 他

高出力ECRプラズマ源『EPS-120』へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

ノベリオンシステムズ株式会社