株式会社シンアペックス 真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』

【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却でプロセス効率化。フラックスレスはんだ付けにも対応

『VPF200/VPF300』は、チャンバー内を真空(減圧)状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。

チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。

また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、
フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。

【特長】
■300×300mmとワイドな有効加熱エリア(VPF300)
■最大加熱温度は450℃
■真空チャンバーは観察用窓を装備
■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用

※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。
 テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。

基本情報真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』

<その他の機能>
・プロセス時間を短縮する優れた冷却システム
・ヒーター毎に出力設定が可能な上下加熱機構
・窒素ガスとギ酸を混合するバブラーを装備可
・時間、温度、圧力ベースで柔軟なプロセス構築が可能
・温度と圧力の測定データをPCへ保存可
・真空チャンバー内の温度測定用熱電対6本を装備
・5つのガスラインで柔軟なプロセス構築が可能
・ギ酸濃度モニター(オプション)との連動も可

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

カタログ真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』

取扱企業真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』

image2.jpg

株式会社シンアペックス

基板実装や半導体産業向け装置の輸出入販売、および開発

真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されます。

株式会社シンアペックス

真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』 が登録されているカテゴリ