明電ナノプロセス・イノベーション株式会社 高純度オゾンガス発生装置『ピュアオゾンジェネレータ』
- 最終更新日：2020-04-16 15:54:44.0
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高純度オゾンガスを連続で供給！
『ピュアオゾンジェネレータ』は、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度
オゾンガスを供給する装置です。
高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能。
また、安全性・信頼性に関しても
「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、
安全な装置設計をしています。
【特長】
■オゾナイザで発生させたオゾンを極低温液化し100％濃度オゾンを発生
■100％濃度オゾンを連続供給することが可能
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報高純度オゾンガス発生装置『ピュアオゾンジェネレータ』
【装置設計詳細】
■非常時のための防爆設計
■停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度／圧力制御
■停電時の緊急パージ機構
■オゾン爆発防止のため冷凍機の動作を維持する機能
■万一、オゾン爆発が生じた場合でも、外部機器への機械的ダメージを
発生させない構造
■規格認証：国際安全規格 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
■品質保証：第三者認証機関によるトレーサガステストにより、
ガス漏れに対する安全性を実証
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途・ソリューション】 ■フィルムへの成膜（低温成膜技術） ■半導体プロセスにおけるアッシング（ピュアオゾン・エチレン技術） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
カタログ高純度オゾンガス発生装置『ピュアオゾンジェネレータ』
取扱企業高純度オゾンガス発生装置『ピュアオゾンジェネレータ』
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■ピュアオゾンジェネレータおよび成膜装置の開発・設計・製造・販売
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