株式会社片桐エンジニアリング 三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン
スパッタリング装置です。

多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化
(ヒータ温度:950℃)や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。

また、アシスト用プラズマ源も対応可能(ECR、ICP、他)です。

【特長】
■三種のターゲットを同時に成膜可能
■多元同時スパッタ以外にも、様々な使い方に対応
■実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
■アシスト用プラズマ源も対応可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

【仕様(抜粋)】
■スパッタ源:Φ2インチ マグネトロンカソード×3基
■スパッタ方向:UP
■スパッタ方法:単元または多元同時スパッタ
■電源:RF500W 電源3基
■対応基板:Φ2インチ 1枚
■ヒーター加熱温度:MAX950℃

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログ三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

取扱企業三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

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株式会社片桐エンジニアリング

○各種真空装置の開発・設計・製作・サービス ○半導体製造装置の開発・設計・製作・サービス ○一般機械装置の開発・設計・製作・サービス

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