ウエハサイズ後工程投影露光装置 MRS サーマプレシジョン

ウエハサイズ後工程投影露光装置 MRS

■ ８インチ以下は「一括露光方式」、
　 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能
■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現
■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の
　実績あり
■ TAIKOウエハにも対応
■ グローバルアライメント方式
■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現
■ フォーカスマップ機構標準装備

特設サイト

基本情報ウエハサイズ後工程投影露光装置 MRS

・装置：露光機、投影露光機、ステッパー
・用途：半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板：ウエハ（特殊ウエハ含む）各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴：解像度 1.5um 以上、等倍、広画角（4～8インチ）
・本体：～12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準

その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	MRS
用途／実績例	詳しくはお問い合わせください。