テルモセラ・ジャパン株式会社 □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 最終更新日:2023-09-16 10:32:22.0
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80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。
・最大基板サイズ:Φ10inch
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源
・有機蒸着源 x 最大4源
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
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基本情報□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可)
・真空排気:真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源)
・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8)
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源
・プロセス制御:手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4
・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ
・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ
価格情報 | 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
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納期 |
お問い合わせください
※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
型番・ブランド名 | MiniLab-080 |
用途/実績例 | 大学・企業研究室での各種基礎実験用途 ・光学薄膜 ・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜 他 |
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