イオン注入に豊富な実績。カーボン加工品のご紹介ですナラサキ産業

高純度を要求される半導体製造工程でのイオン注入には多数のカーボンが使用されます。その高純度カーボンのご紹介です。

高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。

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基本情報イオン注入に豊富な実績。カーボン加工品のご紹介です

高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。

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用途／実績例	・イオン注入装置・半導体後工程はんだ付け工程・MOCVDサセプター・

カタログイオン注入に豊富な実績。カーボン加工品のご紹介です

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ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

1．セラミックス／ガラス酸化物系セラミックスアルミナ、ジルコニア、サファイア、コージライト等窒化／炭化物系セラミックス窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ、炭化ケイ素、R-SiC等マシナブルセラミックスホトベール、マコール、シェイパルハイエムソフトガラス石英ガラス、テンパックスガラス、光学系コーティング等 2．金属受託加工(高融点、超硬、特殊、一般問わず全般) モリブデン、タンタル、ニオブ、チタン、超硬各種、インコネルハステロイ、ニッケル、アンビロイ、SUS、アルミ、その他各種金属電子ビーム溶接、レーザー加工各種 3．エンジニアリングプラスチックス全般受託加工ポリイミド各種、PBI、PEEK他、CFRP 4．カーボン高純度等方性黒鉛、ガラス状カーボン等 5．表面処理イオンプレーティング、CVD、フッ素コーティング、セラミックス溶射、ブラスト処理、精密洗浄、エッチング、【実績業界】・半導体関連・自動車関連・電子部品関連・工作機械関連・航空宇宙関連　・医療関連　　等数百社のお客様にご利用頂いております。