株式会社大和製作所 リフロー装置『NRY-101V6W/LU』

6,8インチウェーハ対応ソルダーバンプ形成用N2リフローシステム

『NRY-101V6W/LU』は、半田ボール搭載後または印刷後のバンプ形成用
N2リフロー装置です。

加熱方式はホットプレートと上部遠赤外ヒーターの併用。
直接熱伝導により温度分布の均一化が図れます。

【特長】
■ローダー・アンローダー一体型設計
■お客様のマガジンカセットに合わせて設計
■炉内へのハンドリングは、3軸クリーンロボットを装備により
 上流機とのインライン化が容易に
■ロボットなしのベルトコンベア搬送のローコストタイプも製作可能
■炉内搬送は、ウォーキングビーム(PAT.P)によるタクト送り など

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基本情報リフロー装置『NRY-101V6W/LU』

【仕様(一部抜粋)】
■加熱方式:ホットプレート加熱、上部遠赤外線加熱
■温度調節範囲:ホットプレート max.400℃、遠赤外線max.500℃
■温度コントロール精度:±1.5℃
■冷却方式:クーリングプレート空冷
■ゾーン数:6ゾーン(加熱4、冷却2)

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価格帯 お問い合わせください
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カタログリフロー装置『NRY-101V6W/LU』

取扱企業リフロー装置『NRY-101V6W/LU』

株式会社大和製作所

■産業機械  ・歯車変速機  ・産業用諸機械 ■半導体製造装置  ・半導体・電子部品用加熱装置  ・プリント基板・BGA対応N2リフロー炉  ・ウェーハ用N2ウェットバック装置  ・LCDガラス基板対応シール乾燥装置

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