PBNるつぼと石英アンプルは再使用が可能！炉体移動式のVGF炉をご紹介します
『MAT-150VGFHQ』は、炉体移動式のVGF炉で、かつヒ素圧1atm中で
育成するので容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る
4インチ用縦型VGF製造炉です。
育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。
また、PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。
【特長】
■容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る
■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報4インチ用縦型VGF製造炉『MAT-150VGFHQ』
【仕様(一部)】
■炉構造：石英管式炉体移動型
■最高温度：1300℃
■常用温度：1200℃
■温度分布1200±2℃程度 約200Lmm
■ゾーン数：6ゾーン
■移動速度
・低速：0.1～10mm/h.
・高速：3～300mm/min.
・移動距離：1650mm
■炉芯管内径：石英管φ150mm 4インチ用
■雰囲気：自動真空置換式 Arガス
■真空ポンプ：ロータリーポンプ など
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
カタログ4インチ用縦型VGF製造炉『MAT-150VGFHQ』
取扱企業4インチ用縦型VGF製造炉『MAT-150VGFHQ』
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■研究用、製造用バルク単結晶育成装置の設計、製造、販売 ■研究用、製造用薄膜単結晶育成装置の設計、製造、販売 ■研究用、製造用真空・加圧加熱処理装置の設計、製造、販売 ■他社の加熱装置の改造、機構部の製作、修理、制御部の改造
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