リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュールティー・ケイ・エス

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール

AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール

・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。
・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。
・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。
・ターゲット利用効率においても優れた結果が得られています。

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基本情報リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

・200mmウェハまで対応可能
・AVP Technology社独自の制御システムへの変更で中古クラスター装置への搭載も可能です。また、他のPVDやエッチングモジュールとの併用も可能です。

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型番・ブランド名	HR-PVD リモートプラズマスパッタリングモジュール
用途／実績例	・磁気ヘッド・薄膜ヘッド・サーマルヘッド・MEMS ・スピントロニクス素材など、高磁性体、高誘電体の成膜用途に最適

取扱企業リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

ティー・ケイ・エス株式会社

研究用・製造用真空プロセス機器の輸入販売、保守・延命化のコンサルティング ■半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置等の輸出入販売・保守 ■高密度プラズマソースの輸出入販売・保守 ■有機材料昇華精製装置の輸出入販売・保守 ■イオンビームエッチング・ミリング装置の輸出入販売・保守 ■イオンビームスパッタ装置の輸出入販売・保守