PICOSUN JAPAN株式会社 Webセミナー『ALD(原子層堆積)はじめの一歩』

ALDについて何も分からない人のためのビギナー講座!原理・材料・装置・プロセスから必要な付帯設備関係まで、基本情報総ざらい!

今、先進的な成膜技術として話題のALD (Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性等の膜質が高く、比較的低温での成膜が可能といった特長があります。
今回、ALDに興味はあるけれど、どのように検討を始めたらいいか分からないというお客様へ、装置・原料・周辺環境といった視点から、ALD技術の概要や導入に必要な注意点などをご説明いたします。

【参画各社紹介】
PICOSUN JAPAN(株):ALDの技術開発において40年以上の経験を持つ、ALD装置専業メーカー。ALD法発明者Tuomo Suntola博士が在籍。
(株)ジャパンアドバンストケミカルズ:ALD材料メーカー。少量多品種対応、受託成膜試験・プロセス開発や評価・コンサルティングに強み。
(株)巴商会:産業ガスの専門商社として、ALDプロセス導入における周辺環境(除害装置・センサ他安全対策・配管施工等)の整備を提供。

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報Webセミナー『ALD(原子層堆積)はじめの一歩』

■Webセミナー概要
日時:2021年6月25日(金)14:00~16:00
実施環境:Microsoft Teams(アカウントをお持ちでなくてもご利用いただけます)
費用:無料
所要時間:2時間(質疑応答含む)
■セミナー内容
<PICOSUN JAPAN>
ALDの原理と特徴・長所/短所
ALDが適した用途・アプリケーション例
ALD装置の概要(構成・ラインナップ)、選び方
量産検討での試算(スループット・ランニングコスト)
<ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ>
ALD材料(プリカーサ)の紹介
材料・プロセスの開発体制
受託成膜テストと性能評価
容器設計
<巴商会>
ALDプロセスに必要な付帯設備
除害装置の概要
安全・環境対策

※上記は予告なく変更となる場合がございます。
※お申込みされた方の個人情報はウェビナーのご連絡の他、参画三社の今後の営業活動で利用させていただくことがありますので、予めご了承ください。

価格情報 無料Webセミナーです。
納期 お問い合わせください
用途/実績例 お申し込みの際には、下記テンプレートをコピーし情報記載の上、下記「お問い合わせ内容」欄に貼りつけてご送信ください。

<お申し込み情報/IPROSアカウント名と同一の場合省略可>
〇社名(必須):
〇お名前(必須・複数でご参加の場合、代表者名):
〇メールアドレス(必須):
〇ご興味のある内容(任意):

※ご質問などございましたらお気軽にお問い合わせ下さい。

カタログWebセミナー『ALD(原子層堆積)はじめの一歩』

取扱企業Webセミナー『ALD(原子層堆積)はじめの一歩』

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PICOSUN JAPAN株式会社

■ALD成膜装置の製造・販売及びアフターサービス ALD(Atomic Layer Diposition、原子層堆積)とは、真空を利用した成膜技術の一つです。ALDは既存のPVD/CVD成膜技術より、下記の点において優位性がある為、急速に市場に浸透してきています。 ・優れた段差被覆性(付きまわり性) ・膜厚が1原子層レベル(約1Å=0.1nm)で制御でき、膜厚分布が良い ・バリア性が高く膜質が良い ・比較的低温で処理可能 ALDの応用分野は、半導体・電子部品・燃料電池・リチウム電池・有機EL・太陽電池・ディスプレイ・LED・メディカル等です。 ALDが爆発的に普及するきっかけとなったのは、半導体メモリのゲート酸化膜形成ですが、その特性から、微細粉末/ナノパーティクルコーティング、MEMS等超小型部品の保護膜・絶縁膜としても使われています。 ワーク表面と共有結合するため密着性も良好で、他の皮膜との間の接着層としても機能します。 ドライプロセスのため、有機溶剤への作業者の暴露低減目的で既存のウェットプロセス代替としても検討されており、ナノレベル表面処理として幅広い分野で注目されています。

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