リソグラフィプロセスにおけるめっき，レジストマスクの基礎とトラブル対策 ～形状・寸法安定化、付着・剥離、気泡・欠陥対策～
近年、めっき技術はエレクトロニクス産業における基盤技術として、その重要性が確立されています。半導体デバイスや高周波用プリント基板およびMEMSなどのエレクトロニクスにおいては、主に、配線形成技術として実用化されています。また、高精度な配線やプラグ構造を形成するにはリソグラフィ技術が必要です。この技術では、レジストマスクで設計された領域に限定してめっき層を形成します。レジストマスクはエッチングマスクとしても用いられます。めっきによる配線形状の制御には、レジストマスクの高精度化が不可欠です。本セミナーでは、CuやNiなどの配線材料のめっき技術、およびリソグラフィ技術の基礎およびレジストマスクの高精度化について講演します。また、マスク変形やマスク剥離などのトラブル解決法についても解説します。本講座を通じて、初心者にも分かりやすく、基礎から学んでいただけます。また、受講者が抱えている日々のトラブル相談にも応じます。
基本情報【Webセミナー】リソグラフィプロセスにおけるめっきの基礎
日時：2021/10/29(金) 10：30～16：30
【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます。
【プログラム】
1. リソグラフィにおけるめっき技術
2. レジストマスクの高精度化
2.1 基本プロセスと制御
2.2 レジストトラブル対策
3. めっき技術の高精度化
3.1 基本プロセス
3.2 めっきトラブル対策
4. 参考資料
5. 質疑応答
日頃の開発・トラブル相談に個別に応じます。
| 価格情報 |
51,000円(税込) ※資料付 ※Eメール案内を希望されない方は、「51,000円×ご参加人数」の受講料 ※Eメール案内(無料)を希望される方は、 ★1名で申込の場合、45,900円 ★2名同時申込の場合は、2名様で51,000円(2人目無料) ★3名同時申込の場合は、3名様で73,000円 ★4名以上同時申込の場合は、3名様受講料＋3名様を超える人数×20,000円 ※2名様以上の同時申込は同一法人内に限ります。 ※2名様以上ご参加は人数分の参加申込が必要です。 |
|---|---|
| 価格帯 | 1万円 ~ 10万円 |
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【受講対象者】 めっき技術分野に関わる技術者を対象にしています。実務レベルのセミナー内容ですが、初心者の方にも分かりやすく説明します。 【学べる事】 ・リソグラフィとめっき技術に関わる基礎学問の習得 ・めっきおよびマスク技術プロセスの習得 ・トラブルへの対応能力 |
カタログ【Webセミナー】リソグラフィプロセスにおけるめっきの基礎
取扱企業【Webセミナー】リソグラフィプロセスにおけるめっきの基礎
【Webセミナー】リソグラフィプロセスにおけるめっきの基礎へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
