イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス伯東

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチング装置をご提案！！

イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。

【特徴】
（１）難エッチング材料を微細加工可能
（２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能
（３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能
（４）基板冷却ステージ(水冷 or 水冷/ガス冷)により基板温度上昇を抑制し、レジスト焼け防止
（５）ステージ角度可変のため、テーパー加工が容易（異方性エッチング）

基本情報イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

伯東(株)/(株)エヌエスは長きに亘り、共同でイオンビームミリング装置の開発を行っており、イオンソース・電源・ステージ・周辺機器・GUIまで自社内で設計・製品化しておりますので、お客様のご要望に応じてカスタマイズが可能です。また製品導入後の修理・メンテナンス等についても、弊社に在籍する技術者が対応させていただきます。実際に装置の性能をご覧いただくため、製品説明会・デモを随時実施しております（基本無料、オンライン対応可）。お気軽にご依頼下さい。

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用途／実績例	【用途】 Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜など難エッチング材料を用いる磁性デバイス、センサ、高周波デバイス、光デバイス向け。 R＆D/大量生産用途で国内外のお客様にお使いいただいております。

ラインナップ

型番	概要
10IBE	研究開発用途に適した小型・省スペースの装置です。自転式直接冷却ステージ（Φ4インチ×1枚まで）搭載可能。
20IBE-C	研究開発から量産まで幅広い用途の中型装置です。自公転運動を行うプラネタリーステージ（φ3インチ×8枚、φ4インチ×6枚、φ6インチ×4枚など）搭載可能。
20IBE-J	量産用・大型基板用の大型装置です。自公転運動を行うプラネタリーステージ（φ4インチ×12枚、φ5インチ×10枚、φ6インチ×8枚など）搭載可能。