【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソーステガサイエンス

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。
ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。

冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4個でチャンバーに固定することができることから、取り付け／取り外しの際に工具を必要としません。

反応性スパッタにも対応するので、酸化物や窒化物の成膜も可能です。

HEXでは最大3台、HEX-Lでは最大6台の成膜ソースを取り付けることができるので、多層膜や化合物膜を成膜することが可能です。

関連リンク - https://www.tegascience.co.jp/products/kvt/fission…

基本情報【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

【主な仕様】
ターゲット直径：2インチ
ターゲット厚さ：最大6mm（材料に依存）
DC電源：720W（600V, 1.2A）
RF電源：300W（13.56MHz）
ガス供給：ガスフード経由
冷却：水冷（1L／分）

価格情報	構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください ※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	Fission
用途／実績例	金属膜、絶縁膜、金属酸化膜、金属窒化膜などの成膜

取扱企業【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

テガサイエンス株式会社

【取扱製品】 1. 多目的真空蒸着装置 2. ナノ粒子堆積装置 3. 円二色性分散計 4. ストップトフロー装置 5. 超高感度CCDカメラ 6. X線回折CCD検出器 7. 高性能TEM用カメラ 8. 低温吹付装置 9. 極低温単軸ストレス／ひずみセル 10. IRセンサーカード 11. シンチレーター応用製品