テガサイエンス株式会社 【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源
- 最終更新日：2023-12-22 13:25:41.0
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。
抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。
抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセスガスを使用しないことです。そのため高い真空度中で動作し、堆積した膜にほとんど不純物が含まれません。
TESソースは蝶ナット4個でチャンバーに固定されています。また、冷却水配管はクイックリリースコネクターにより接続されています。そのため、材料の補充やボート／フィラメントの交換を素早く行うことが可能です。
HEXでは最大5台、HEX-Lでは最大6台のTESソースを取り付けることができます。また、スパッタソースFission、電子ビーム蒸着源TAUおよび有機蒸着源ORCAと組み合わせて使用することができます。
基本情報【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源
【主な仕様】
ボート容量：1cc～5cc
温度範囲：50℃～2200°C（材料に依存）
電源：DC600W（オプション：1.5kW）
| 価格情報 | 構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
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| 納期 |
お問い合わせください
※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
| 型番・ブランド名 | TES |
| 用途／実績例 | メタライゼーション、ARコーティング |
カタログ【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源
取扱企業【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源
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【取扱製品】 1. 多目的真空蒸着装置 2. ナノ粒子堆積装置 3. 円二色性分散計 4. ストップトフロー装置 5. 超高感度CCDカメラ 6. X線回折CCD検出器 7. 高性能TEM用カメラ 8. 低温吹付装置 9. 極低温単軸ストレス／ひずみセル 10. IRセンサーカード 11. シンチレーター応用製品
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