テガサイエンス株式会社 【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ
- 最終更新日:2023-12-26 10:25:47.0
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回転加熱、回転水冷
多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用のサンプルステージです。
正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。
HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。
基本情報【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ
【主な仕様】
回転速度:0または2~20rpm
加熱温度:最高500℃
価格情報 | 構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
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納期 |
お問い合わせください
※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
型番・ブランド名 | HEX用サンプルステージ |
用途/実績例 | HEXまたはHEX-L用サンプルステージ |
ラインナップ
型番 | 概要 |
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固定サンプルステージ | 標準装備のサンプルステージ |
回転サンプルステージ | 回転速度:0または2~20rpm |
回転加熱サンプルステージ | 回転速度:0または2~20rpm 加熱温度:最高500℃ |
回転水冷サンプルステージ | 回転速度:0または2~20rpm 冷却温度:チラー能力に依存 |
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