テガサイエンス株式会社 【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回転加熱、回転水冷

多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用のサンプルステージです。

正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。

HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。

基本情報【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

【主な仕様】
回転速度:0または2~20rpm
加熱温度:最高500℃

価格情報 構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
納期 お問い合わせください
※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名 HEX用サンプルステージ
用途/実績例 HEXまたはHEX-L用サンプルステージ

ラインナップ

型番 概要
固定サンプルステージ 標準装備のサンプルステージ
回転サンプルステージ 回転速度:0または2~20rpm
回転加熱サンプルステージ 回転速度:0または2~20rpm 加熱温度:最高500℃
回転水冷サンプルステージ 回転速度:0または2~20rpm 冷却温度:チラー能力に依存

カタログ【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

取扱企業【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

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テガサイエンス株式会社

【取扱製品】 1. 多目的真空蒸着装置 2. ナノ粒子堆積装置 3. 円二色性分散計 4. ストップトフロー装置 5. 超高感度CCDカメラ 6. X線回折CCD検出器 7. 高性能TEM用カメラ 8. 低温吹付装置 9. 極低温単軸ストレス/ひずみセル 10. IRセンサーカード 11. シンチレーター応用製品

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