日本コベッタ株式会社 半導体向けポリエチレンフィルタ Photopex PE
- 最終更新日:2022-03-08 11:01:54.0
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用途に応じた幅広い孔径(1nm相当の微細孔径も)と清浄度を有するポリエチレンフィルタ
Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μm相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。
この高い清浄度のため、高いShedding性能を示し、フィルタからの抽出を低減しております。
また、用途に応じて膜面積も選択することが可能であります。
基本情報半導体向けポリエチレンフィルタ Photopex PE
詳細は弊社まで問い合わせください。
各フィルタは各種カプセルやカートリッジで供給可能。
多くの既存品とは互換性あります。
各種アプリケーションに合わせてご提案できます。
価格情報 | 弊社まで問い合わせください。 |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | Photopex UPE |
用途/実績例 | 主に半導体デバイス製造用途 フォトレジスト製造濾過 有機溶剤濾過 その他幅広いリソグラフィ薬液濾過 ウエハ洗浄液濾過 |
取扱企業半導体向けポリエチレンフィルタ Photopex PE
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