日本コベッタ株式会社 【脱メタル】半導体材料向け金属除去製品を幅広くラインナップ
- 最終更新日：2022-04-14 12:53:53.0
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金属汚染のリスク低減に！「薬液の品質に影響が…」「強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去を行いたい」等でお困りの方必見です。
半導体製造プロセスには様々なガス、薬液が使用されますが、これらはサプライチェーンでの輸送や製造中に使用される供給システムや容器への接触によって、常に原料や部材からの金属汚染のリスクにさらされ、半導体製造プロセスの工程の不安定化や歩留まり低減を引き起こします。
Cobetterでは、新規機能膜の開発やフィルタ構造の最適化により、困難とされてきた強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去が高効率で達成可能になるIonGardシリーズやリソグラフィ工程に使用される薬液に適したNylonpolarやMGS2Mシリーズ、またガス向けに開発されたGasPuriadv等のラインナップがあり、高効率で高寿命の金属除去を行えます。
【金属除去ラインナップ】
■IonGardシリーズ
■Nylonpolar/MGS2Mシリーズ
■GasPuriadv
また、これら機能膜をベースに組み合わせることにより、さらに様々なニーズに対応可能です。
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基本情報【脱メタル】半導体材料向け金属除去製品を幅広くラインナップ
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※製品によって納期変動しますが、通常2ヶ月以内 |
| 型番・ブランド名 | ■IonGardシリーズ ■Nylonpolar/MGS2Mシリーズ ■GasPuriadv |
| 用途／実績例 | ■IonGardシリーズ 純水、強アルカリ、強酸 ■Nylonpolar/MGS2Mシリーズ 有機溶剤、フォトレジスト ■GasPuriadv 半導体各種ガス |
カタログ【脱メタル】半導体材料向け金属除去製品を幅広くラインナップ
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