テルモセラ・ジャパン株式会社 スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 最終更新日：2023-09-14 00:39:14.0
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nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。
顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。
ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。
真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。
IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存
新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。
基本情報スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
◆成膜源◆
・Φ2inchマグネトロンスパッタカソード x 1
・抵抗加熱蒸着源（最大2）
・有機蒸着源（最大2）
◆基板サイズ◆
・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー 応相談）
◆膜厚センサー◆】
・水晶振動子膜厚センサー x 1
◆真空排気◆
・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ
◆付属ソフトウエア◆
・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア
◆オプション◆
・基板加熱ヒーター Max500℃
・ドライスクロールポンプ
◆ユーティリティ◆
・電源：AC200V 単相 50/60HZ 15A
・プロセスガス：0.2Mpa
・ベントガス：0.04Mpa
・圧縮空気：0.6Mpa
・冷却水：2L/min 0.2Mpa
◆主なアプリケーション◆
・新素材開発
・燃料電池
・その他
| 価格情報 |
- 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | nanoPVD-ST15A |
| 用途／実績例 | ◆主な応用アプリケーション◆ ・電子部品 ・光学膜 ・反射防止膜 ・有機トランジスタ、有機EL、 他、教育・研究機関での基礎研究、製品開発など |
カタログスパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
取扱企業スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
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【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置
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