当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な
『シリコン（Si）粉末』を提供しています。
Si純度は2N（Si＞99.0％）、3N（Si＞99.9％）、4N（Si＞99.99％）、
粒度分布は微粉末（100nm～）、粉末（1.0μm～）、粒体（1～3mm）に対応。
プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、
超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。
【特長】
■微粉末～粒体の製造方法：乾式ジェットミル・乾式ボールミル
■微粉末～粒体は最低1kg～最大約50t／月の出荷に対応
■超微粉末は最低1kg～最大約500kg／月の出荷に対応
■出荷時、ロットごとにCOAを提出
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報シリコン（Si）粉末
【カスタマイズ可能範囲】
◎材料：シーメンス法バージンポリシリコン（4N）
金属冶金法ポリシリコン（3N／4N）
金属シリコン（2N／3N）
P／Bドープインゴット（4N）
◎化学成分：Si純度 2N～4N
個別の金属不純物濃度※上限値指定
ドーピング元素（B／P／Ge／As等）濃度※上限値指定
酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径：D50指定※D10、D90指定協議
※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
カタログシリコン（Si）粉末
取扱企業シリコン（Si）粉末
-
-
【事業ミッションと展開方針】 １．先端産業向け必須材料の調達・供給 1) 日本の先端科学技術開発に資する研究開発用材料の調達・供給 ＜重点取扱分野＞ ＊次世代電池材料 ＊パワー半導体材料 ＊放熱材料 ＊３Ｄプリンター材料 ＊ＥＶ軽量化材料 ＊高機能セラミック材料 ＊高機能カーボン材料 2) 日本の先端産業の拡大発展に必須となる量産用基礎資材の調達と サプライチエーンの再構築 ＊自然災害・地政学リスクを踏まえた金属シリコン等の 基礎資材のサプライチエーンの多角化 ２．シリコン材料の研究開発 1) アモルファスシリコンのバルク製造 ＊ＬｉＢ負極用材料として 2) シリコンスラッジ活用の高付加価値化 ＊脱酸素剤を超える用途開発 ３．工場建設コンサルティング・技術支援 ＊金属シリコン製造工場 ＊フェロシリコン製造工場 ＊シリコン粉末製造工場
シリコン（Si）粉末へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
