テルモセラ・ジャパン株式会社 スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 最終更新日：2023/01/17
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4
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基本情報スパッタリング装置『MiniLab-060』
【主仕様】
・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4点（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4点（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能（*オプション）
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２
・膜厚制御：Inficon社製 SQM-160（又はSQC-310） 2チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 13A, 水冷3ℓ/min, N2ベントガス0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, バイアス印加ステージ, ドライポンプ , ロードロック機構
| 価格情報 | 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
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| 納期 |
お問い合わせください
※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | MiniLab-060 |
| 用途／実績例 | 大学・企業研究室での各種基礎実験用途 ・光学薄膜 ・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜 他 |
カタログスパッタリング装置『MiniLab-060』
取扱企業スパッタリング装置『MiniLab-060』
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【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置
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