粉体提供可能なネガ型レジスト　H-SiOx オプトシリウス

電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途粉体と溶液の2種類を提供可能！

AQM社のH-SiOxは粉体・溶液2種類を提供可能なネガ型のレジストです。

Dow XR-154やFOXと同等の性能を提供可能です。

粉体・溶液はそれぞれに特徴がございます。

【粉体】
長期間の保管が可能：1年間保存可能なので長期間において少量ずつのご使用が可能です。
即納対応：必要な時にすぐに手に入ります。
常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。
濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。
最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現

【液体】
少量から購入可能：必要量に応じて対応します。
短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。
受注生産：より長いシェルライフでのお届けが可能です。
最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現

お問い合わせは弊社担当【北野】まで。

基本情報粉体提供可能なネガ型レジスト　H-SiOx

電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途

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用途／実績例	電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途