膜厚測定装置『LF-1000』ラポールシステム

ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置

『LF-1000』は、分光器と光干渉式膜厚解析ソフトを搭載し、各種パラメータの
設定をする事により膜厚測定を可能とした非接触式自動膜厚測定装置です。

本解析ソフトは薄膜の表面及び基盤との界面からの干渉波形を解析することにより、
非接触で、透明もしくは半透明の薄膜の膜厚、屈折率及び吸収係数を簡単に
自動測定及びマッピング処理する事が出来ます。

【特長】
■ウェハ・ガラス基板だけでなく、その他の鏡面基板上の膜厚測定が可能
■膜の光学定数を設定する事で、各種の膜厚測定が測定可能
■薄膜酸化膜、SOI、EG膜、カラーフィルター等の測定に優れる
■標準として3・4・5・6・8・12インチウェハに対応したオートステージ
■ローダ仕様にもオプションで対応可能(カセット・FOUP、ポート数にも応相談）
■測定ヘッド仕様よって、薄膜から厚膜の膜厚測定に対応
■GEM通信はオプション

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.lapole.co.jp/html/maku.html

基本情報膜厚測定装置『LF-1000』

【基本測定】
■測定波長範囲 400nm～1000(1700)nm(波長範囲は仕様による)
■測定膜厚範囲 150Å ～50(250)μm(測定膜厚は仕様による)
■光学定数測定範囲 1000Å ～5(10)μm(測定範囲は仕様による)
■測定時間 0.3～3 秒以内（膜種によって異なる）
■繰返し再現性 ±10Å以内あるいは±0.3％以内どちらか大きい数値

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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型番・ブランド名	LF-1000
用途／実績例	【用途】 ■半導体製品　・フォトレジスト、酸化膜、窒化膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。