ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置
ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置 http://www.ipros.jp/data/products/tmp/261248/001/img/A7065.JPG R&D用途に最適な コンパクトなスピン洗浄装置です。 チャックテーブルの交換により 多種多様な基板を洗浄できます。 <主な仕様> 対応ワークサイズ ウエハ φ8インチ(MAX) マスク 6025(MAX) 純水リンス、ブラシ洗浄、 メガソニック洗浄(または2流体洗浄) N2ガスブロー、スピン乾燥(MAX2000rpm) シーケンサコントロール タッチパネル(GOT)にて簡単操作 レシピ機能(20種類30ステップ) 各処理時間、動作をタッチパネルより設定可能 (スイング幅、速度、スピン回転数、etc) 株式会社カナメックス 厚木工場 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > その他半導体製造装置 WSC-200S・MS -
  • ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置
    株式会社カナメックス
    オプションでオゾン水(20ppm)やエキシマUV、大気圧プラズマとの組み合わせも可能です。
    その他、ULPA/HEPAユニット、薬液供給ユニットとの組み合わせなど汎用性に優れております。
  • ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置の製品画像です
    ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置の製品画像です

基本情報ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置

R&D用途に最適な
コンパクトなスピン洗浄装置です。
チャックテーブルの交換により
多種多様な基板を洗浄できます。

<主な仕様>
対応ワークサイズ
ウエハ φ8インチ(MAX)
マスク 6025(MAX)

純水リンス、ブラシ洗浄、
メガソニック洗浄(または2流体洗浄)
N2ガスブロー、スピン乾燥(MAX2000rpm)
シーケンサコントロール
タッチパネル(GOT)にて簡単操作
レシピ機能(20種類30ステップ)
各処理時間、動作をタッチパネルより設定可能
(スイング幅、速度、スピン回転数、etc)

価格

-

価格帯

納期

発売日

取扱い中

型番・ブランド名

WSC-200S・MS

用途/実績例

受け入れ洗浄
露光前洗浄
ディスク洗浄
スタンパー洗浄
パーティクル除去
有機物除去
CMP後洗浄
バックグラインド後洗浄
MEMS

よく使用される業種

電子部品・半導体、教育・研究機関

取扱会社ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置

半導体前工程/先端実装/FPD分野におけるフォトリソグラフィ関連等のウエットプロセス装置の設計製作及び販売

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