結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式) 日本セミラボ

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

ウェハーを割らずにそのままで測定可能です。

関連リンク - http://www.semilab-j.jp/

基本情報結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。
様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属　堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。

価格情報	-
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	SIRM300
用途／実績例	- 非破壊なのでサンプルを無駄にしません - ウェハー裏面の状態を問いません - 高ドープウェハーの測定が可能です(epiの場合: 3mΩcm) - パーティクル検出限界: 20nm - 300mmまでのウェハー測定可能 - 自動ウェハー搬送(エッジグリップハンドリング) - レーザーマーキングオプション

お問い合わせ

取扱企業結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

日本セミラボ株式会社新横浜本社

■半導体測定装置の輸入販売及び技術サービスの提供 ■下記製品の取り扱いをしています。分光エリプソメーター非接触シート抵抗測定装置 DLTS測定システムナノインデンター AFM（原子間力顕微鏡）キャリア移動度測定装置非接触CV測定装置ライフタイム測定装置フォトルミネッセンス装置仕様や価格情報などお気軽にお問い合わせください。