スピンスプレー薄膜作製装置北野精機

基本情報スピンスプレー薄膜作製装置

フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学　阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う（単なる物理吸着ではない）ために強固な付着力が得られます。

価格情報	-
納期	お問い合わせください
用途／実績例	●納入実績東京工業大学 …他

カタログスピンスプレー薄膜作製装置

取扱企業スピンスプレー薄膜作製装置

北野精機株式会社

最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設【製品一例】 ◆真空チャンバー ◆真空部品（フランジ・継手類、他）　《ＰＶＤ／ＣＶＤ装置》 ◆有機ＥＬ材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機ＴＦＴ開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置（ＭＢＥ）　（化合物半導体・窒化物・酸化物） ◆有機金属気相成長装置（ＣＶＤ）《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置（ＦＩＭ） ◆電子エネルギー分析システム（ＣＭＡ） ◆ＴＥＭホルダー（加熱／低温） ◆ＵＨＶレーザー顕微鏡装置 ◆３次元アトムプローブ装置（３ＤＡＰ）