パーカー熱処理工業株式会社 真空蒸着システム PECVD

薄膜蒸着における低い工程温度

高純度フィルムの形成が可能な、真空蒸着システム

基本情報真空蒸着システム PECVD

プラズマを利用したCVDで、source gas などで分解させ、そこで発生する
グロー放電を利用する薄膜合成法です。

Glow discharge を起こさせるために、0〜13.56MHzの多様な周波数領域の
powerを利用します。

■□■メリット■□■
■高純度フィルムの形成が可能

■Source Gas によって多様な薄膜の形成が可能

■大面積をコーティングする時にも、均一なuniformityと高い蒸着率

■CONTROLが簡単で、大量処理が可能

■薄膜蒸着における低い工程温度

●その他詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい●

価格情報 -
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型番・ブランド名 PECVD
用途/実績例 真空蒸着システム

カタログ真空蒸着システム PECVD

取扱企業真空蒸着システム PECVD

図1.jpg

パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

●工業薬品 ●プラント ●表面処理加工

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