パーカー熱処理工業株式会社 真空蒸着システム PECVD
- 最終更新日:2011-03-14 11:23:02.0
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薄膜蒸着における低い工程温度
高純度フィルムの形成が可能な、真空蒸着システム
基本情報真空蒸着システム PECVD
プラズマを利用したCVDで、source gas などで分解させ、そこで発生する
グロー放電を利用する薄膜合成法です。
Glow discharge を起こさせるために、0〜13.56MHzの多様な周波数領域の
powerを利用します。
■□■メリット■□■
■高純度フィルムの形成が可能
■Source Gas によって多様な薄膜の形成が可能
■大面積をコーティングする時にも、均一なuniformityと高い蒸着率
■CONTROLが簡単で、大量処理が可能
■薄膜蒸着における低い工程温度
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価格情報 | - |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | PECVD |
用途/実績例 | 真空蒸着システム |
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取扱企業真空蒸着システム PECVD
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